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Novatek Microelectronics Corp
研發二處 IC EPROM UV 曝光燈
中華電信研究院楊梅院區
UV/O3-185nm矽晶圓臭氧清洗改質環型燈
楠梓電子-平行光曝光機用高壓汞弧燈&橢圓反射鏡
採用無光罩損害之5Kw汞短弧燈平行光投影曝光、因應PCB軟性基板收縮增建,可實現多層類型高精確度重疊。達成10μ線寬/線距,tact間曝光1.5秒能力的高密度印刷電路板用步進與重覆式曝光機.
工業技術研究院-材料與化工研究所
小型太陽能及LED,光電模組封裝測試
敬鵬工業-平鎮廠
PCB業文字,防焊油墨,綠漆等後端修補用UVA固化燈組.
雲林科技大學-環境工程學系
Xenon Arc Lamps 500Wx 2組左右對照射-光觸媒反應器
聯盛電子股份有限公司
電阻及電容披覆絕緣防水UV膠輸送式流水線
3Kw面光源固化汞燈組 X3set
高雄應用科技大學 模具工程系 (高分子加工研究室)
PMMA光學壓克力UV膠塗佈轉印後UV膠固化製程.
光源:500W高壓汞燈
光源:500W高壓汞燈
國立成功大學機械系-機光電整合實驗室
Roll-to-Roll,是種高效能、連續性的生產方式,專門處理可撓性質的薄膜,該類薄膜或軟板從原筒狀的料卷捲出後,再在軟版上加入特定用途的功能,或在軟版的表面加工,然後再捲成圓筒狀或進行裁切。
在製造過程中,由於不需使用真空無塵的環境、複雜的腐蝕過程與龐大的廢液處理工程 ,可降低生產成本,因此也廣泛受到矚目,可用於LCD、電子紙、薄膜太陽能電池或RFID的製造過程。
光源:1000W高壓汞燈
在製造過程中,由於不需使用真空無塵的環境、複雜的腐蝕過程與龐大的廢液處理工程 ,可降低生產成本,因此也廣泛受到矚目,可用於LCD、電子紙、薄膜太陽能電池或RFID的製造過程。
光源:1000W高壓汞燈
台灣科技大學工程2館化工所 戴老師實驗室
U type-90W UV/O3矽晶片清洗改質燈
三大網版有限公司
精密網版製作GL-3kw立式曬板機450x450mm
中央研究院物理研究所
氙氣短弧燈USHIO UXL-150安定器製作與點燈測試
台灣佳能(股)-台中工廠
像機鏡頭模組Cleaner-UV/O3抽屜式清洗改質機燈管及安定器配置
像機鏡頭模組Cleaner-UV/O3抽屜式清洗改質機燈管及安定器配置
泰藝電子(股)樹林,深圳廠(改善表面親水性)
石英晶片(Crystal Wafer)UV/O3-185nm客製化改質機
批次式-U-type 90W x12 Lamps
位速科技股份有限公司-楊梅廠
連續輸送式UV/O3清洗改質機
連續輸送式UV/O3清洗改質機
國家同步輻射研究中心-光學小組
UV/O3-185nm客製化批次式改質機
財團法人精密機械研究發展中心-嘉義
UV/O3-185nm客製化輸送式清洗改質機
國立交通大學光電工程研究所
氙氣短弧燈XBO-100W -VIS可見光源校正