UV/O3清洗改質燈
UV/O3 185&254nm光譜分布圖
乾洗淨改質UV/O3 185&254nm LAMP製程
ㄧ般使用在玻璃上面的洗淨製程
分為兩種:乾洗淨或是濕洗淨製程
乾洗淨製程:
使用UV是於1980年代初將光洗淨法實用化，一直到90年代以改質為目的被廣汎的應用。
由UV而產生之氧化反應，其效果依被處理物之種類而定分為洗淨和改質兩大項
而光處理法的基本原理UV是擁有殺菌能量的一種電磁波也是屬於光的一種，其波長領域極廣，
100mm ~400mm為紫外線放射範圍，屬於UV-C範圍，因其波長短UV能量高，其值和很多有機物之化學結合之能量值相近，易起反應生成各種作用及效果，其中最具代表的作用就是洗淨.
改質對塑料玻璃陶瓷或是耐蝕性佳之金屬而言有顯著的效果
光洗淨的工作原理
UV光源發射185nm和254nm光子能量，作用於被清洗物體表面，由於大多數碳氫化合物對185nm有較強的吸收能力，在吸收了185nm光子能量後分解成離子、游離態原子、受激分子和中性分子，這就是所謂的光敏作用。
空氣中的氧分子在吸收了254nm光子後產生臭氧O3和原子氧O。臭氧對185nm同樣具有強烈的吸收作用，臭氧又分解為氧氣O2和原子氧O。原子氧O是極活潑的，在它作用下，物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物化合成可揮發的氣體：二氧化碳、氧氣和水蒸汽等逸出表面，徹底清除了粘附近在物體表面上的碳和有機污染物。
UV光洗淨-改質的優點
和一般傳統的清潔方式比較起來，這個方式的優點有：
1可以清除大部分的有機物，因此表面改質或是清潔的效果非常顯著。
2在常溫、常壓的環境中即可操作。
3和使用溶劑清潔比較起來，由於沒有廢棄溶劑的問題，因此不需要額外的廢液處理成本。
這項技術的主要的172nm的光也和185nm的光一様會生成臭氧、並有生成原子状的氧。光子的能量大,將有機結合的切斷能力高故EXCIMER Lamp可比低圧水銀Lamp生成更多的励起氧原子、使洗浄速度提高。
使用172nm光的UV/O3洗淨,主要是靠近(O(1D)) 洗淨速度和低壓水銀LAMP的情況比起來約有5倍的差。
從氮氣中的洗淨實驗來看,只在172nm光下的洗淨效果非常小。
何謂光洗淨技術
就是利用紫外光發出的特種波長 (172/185/254nm)的光子能量，對物體表面吸附的有機污染物（碳氫化合物）發生光敏氧化作用，去除粘附在上的碳氫化合物，經過光清洗的物體潔淨度，能達到一般清洗方法難以達到的清潔度。光洗淨法對製品之良率和品質的提升確實有所幫助
光洗淨可去除之污垢
• 利用光洗淨來去除油性污垢如下所顯示般之有機性化合物即是
• 最近有報告提出和氯並用能除去重金屬或微細的塵埃
一般有機性污垢/人體皮脂化妝品油脂/樹脂添加劑/ 焊劑/ 臘/Motor油/ 潤滑油/溶劑。
一、紫外光清洗的工作原理：
紫外光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質，經過光清洗後的材料表面可以達到"原子清潔度"。更詳盡的講：UV光源發射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量，當這些光子作用到被清洗物體表面時，由於大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力，並在吸收185nm波長的紫外光的能量後分解成離子、游離態原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光後也會產生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用，臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下，物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。
清洗時，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式連續輸送或較小物件則以抽屜批次式使用，上方裝置低壓水銀燈產生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關係。
一般STN-LCD製作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300mj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色濾光片製作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量為600mj/cm2(253.7nm)。在TFT-LCD製作過程中，除了低壓水銀燈產生臭氧清洗玻璃外，目前製程的主流是，使用Excimer Lamp，其172nm波長紫外線的高反應性質對玻璃的清洗效率更好。
二、紫外光清洗的特點：
1、是一種無接觸方式，可在空氣中進行並且在清洗後不必進行乾燥。
2、可徹底清除物體表面的碳和有機污染物。
3、無溶劑揮發及廢棄溶劑的處理問題。
4、保證產品的高可靠性和高成品率。
5、產品表面清洗處理的均勻度一致。
6、由於光清洗是通過光敏、氧化反應去除物體表面的碳和有機化合物，所以容易發生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對錶面污垢清洗、不適對污垢量較多，無機類污垢清洗。
三、紫外光清洗的技術應用範圍：
主要在液晶顯示器件、半導體矽晶片、集成電路、高精度印製電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產過程中採用光清洗方法最為合適。
主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、矽晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。
可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘餘的光刻膠等。
此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(紫外光錶面質變)的特點，目前在液晶顯示器STN的生產過程中，主要是用在膜處理技術上，對於改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層，TOP塗層與PI塗層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產品，用於納米技術研究，產品經此UV光照射發生化學反應，使產品表面性質改變。 STN-LCD、彩色濾光片及OLED的製作過程中，有些製程設備相當雷同，差別在於製造工藝要求的不同。隨著線路的精細化及產品的彩色比，LCD產業對製造工藝的要求也不斷地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有設備能力不斷地精進，才能提高生產的質量與效率。
四、UV光清洗專用UV測試儀：
UV-int172:EUV 130-250nm Max:172nm 0-999,999mj/cm2
UV-int185:VUV 160-300nm Max:185nm 254nm 0-999,999mj/cm2
客製化UV/O3-185nm清洗改質機
批次抽屜式
連續輸送式
高效廚房油煙UVO3臭氧分解淨化器
1.技術原理：
一、本產品利用德國進口超強UVO3-185nm綜合高能高臭氧UV紫外線光束分解惡臭氣體，改變惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯系物、苯、甲苯、二甲苯、丙酮、丁酮、乙酸乙酯、甲醛、乙醛、乙酸乙酯、苯乙烯、烷烴、烯烴、炔烴、芳香烴、酚、硫化氫、硫醇、硫醚、氨、胺、吲哚、硝基、的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
二、先利於超強UVO3-185nm對有機廢或無機廢氣進行快速列解分裂打短，再利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。最後通過臭氧發生器製造足夠的氧離子對廢氣進行氧化，達到讓廢氣生成二氧化碳和水的效果。
三、惡臭氣體利用排風設備輸入到本淨化設備後，淨化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的．
ZLD-EQ系列惡臭氣體UV高效光解廢氣淨化設備的性能優勢、高效除惡臭：能高效去除揮發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率最高可達99%以上，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。
㈤、設備佔地面積小，自重輕：適合於佈置緊湊、場地狹小等特殊條件，設備佔地面積＜1.2平方米/處理10000m3/h風量。
㈥、進口材料製造：防火、防腐蝕性能高，設備性能安全穩定，採用不銹鋼材質，設備使用壽命在十五年以上。
㈦、環保高科技專利產品：採用國際上最先進技術理念，通過專家及我公司工程技術人員長期反复的試驗，開發研製出的，具有完全自主知識產權的高科技環保淨化產品可徹底分解工業廢氣中有毒有害物質，並能達到完美的脫臭、淨化效果，經分解後的工業廢氣，可完全達到無害化排放，不產生二次污染，同時達到高效消毒殺菌的作用。
㈧、防爆認證產品：設備具有安全、防爆特性，能廣泛應用於採油(氣)田、石油化工、製藥等防爆要求高的行業。
除臭設備的適用場所：
除臭設備廣泛應用於噴漆廠除臭、橡膠廠除臭、塑料廠、油漆廠除臭、噴塗車間除臭、電子廠除臭、造紙廠除臭、電路板廠、包裝廠除臭、樹脂廠除臭、油墨廠除臭、醫藥廠除臭、飼料廠除臭、塗裝廠除臭、紡織服裝廠除臭、養殖屠宰廠除臭、污水泵站除臭、垃圾處理站除臭、污泥乾化站除臭、防水材料廠除臭、瀝青廠除臭、電鍍廠除臭、化肥廠除臭、家具廠除臭、皮革廠除臭、煙草除臭、化工廠除臭、冷凍廠除臭、食品廠除臭、造紙廠除臭、印刷廠除臭、飼料廠除臭、香精廠除臭、污水處理廠除臭、VOC有機廢氣處理除臭、養龜房除臭除臭、4s店噴漆廢氣除臭、酒店除臭、商場除臭、醫院除臭、糞便處理、合成纖維、合成樹酯、工業污水、生活污水處理等行業的廢氣處理、臭氣處理、尾氣處理、異味淨化、空氣淨化、消毒殺菌等。
